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微纳制备与加工
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激光直写（无掩模光刻机）
发布人：王一鸣 发布日期：2022-03-11 点击次数：

Microwriter ML II无掩膜激光直写系统是专门为科研实验室设计开发的多功能激光直写光刻系统，不仅具有无掩模板直写系统的灵活性，还拥有高书写速度、高分辨率和低成本的特点。Microwriter ML II采用集成化设计、全自动控制，可靠性高，操作简便，是微电子、半导体研究中代替传统光刻工艺的理想工具。

 

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