资实部已推出了十期维修升级专项成果展示，本期展示的专项为高真空度气相沉积系统维修及改造。

高真空度气相沉积系统维修及改造

一、专项内容

高真空度气相沉积系统购置于2011年，具备金属、无机非金属材料薄膜的共溅射、多层膜溅射、反应溅射沉积等薄膜沉积功能，广泛应用于光电功能薄膜、生物材料涂层、耐磨道具涂层等领域。

技术改进内容：本次维护主要针对设备长期使用及搬迁过程造成的损坏，具体包括：维修升降装置与分子泵等控制系统；更新升级样品台自转控制系统；安装三路进气管路和混气室，并更新流量计；更换电离规及真空显示单元；更换溅射电源。

二、改进提升情况

高真空度气相沉积系统在完成真空获得系统（包括机械泵、分子泵、各阀体检测和更换）、真空检测系统（包括电离规和电阻规的更换）、混气室改造、溅射电源检修与更新以及靶头检测维修后，已恢复正常运行。目前其本底真空可达4*10-4Pa，配备直流溅射电源2台，射频电源1台及强磁靶3个，能够实现金属、无机非金属材料薄膜的共溅射、多层膜溅射及反应溅射沉积，各项性能均满足设备使用的相关技术指标。

三、专项成果

1.支持教学科研情况

设备维修更新后，年有效机时数1496小时，共享服务机时324小时，培养学生17人（其中博士研究生1名，硕士研究生10名），完成开机次数211次。

2.成果产出与应用效益

该设备支持材料科学与工程学院、机械工程学院、电气工程学院、齐鲁医学院等多个单位课题组开展超薄纳米Ag膜、电解制氢阳极板表面改性、芯片接脚、生物医用材料等项目的研究。依托该设备申报国网电科院外委项目1项，在《Applied Surface Science》《Vacuum》等薄膜领域期刊发表高水平论文2篇，授权专利1项。